这次要是由于 EUV光刻机的出口遭到了限制，ASML只能出口到中国的低端和深紫外光刻机，占到了将近15%的支出。假如这些设备再次被加到“清单”上，不但会给 ASML带来巨额的经济损失，还会让他们在中国得到更多的市场。最次要的缘由，还是国际光刻机的研发速度。就像 ASML此前曾向老美正告过的那样：不向中国出售光刻设备，只能让他们在这方面更上一层楼，最终到达自给自足的水平，到时分 ASML就得面临破产的风险。这也是为何，大局部人都对ASML寄予厚望的缘由，哪怕“三方协议”曾经失效，但至多也有100台左右的光刻机，保证国际的芯片消费，不会呈现设备缺乏的成绩。可如今看来，他的这种想法，真实是太过老练。就在前几天，ASML官方发布了光刻机的“新规”，表示三方曾经赞同，将半导体行业的禁令，从 EUV光刻机，扩展到其它行业。据 ASML总裁彼得所言，只要（NXT:1980Di）深紫外光刻机，才是独一不受此限制的，该设备次要用于28nm以上的成熟芯片制程。至于 NTT:2000i、 NTT:2050i，这些可以用于14nm工艺的深紫外光刻机，则需求事前取得同意，才干量产。不过，在老美对中国公司的压制下，这两种 DUV要想进入边疆市场，怕是不容易了。这也就意味着，ASML原方案出口到边疆的100套光刻设备，在“新规”出台之后，将被大幅缩减。遭到冲击最大的大约就是中芯国际，目前可以爲客户提供14nm制程工艺的最高程度，并且曾经和 ASML签署了11亿美元的推销合同。好在28纳米工艺目前还比拟平安，中芯国际新成立的4个12英寸芯片工厂，仍然可以正常消费。龙芯的工程师胡伟武，也已经在大众面前说过，进步国产芯片的自主才能，28nm就足够了。虽然美、日、荷三国间的协作对国际芯片开展的影响很小，但是我们依然不能漫不经心。首先，国际的晶圆不能够不断停留在28nm制程，科技在提高，时代在提高，晶圆制程的不时提高，才是主流，不然就会被时代所淘汰。其次，美帝还在打着消灭中国的主见，难保他们不会对中国“下狠手”，假如28nm的技术被制止，这将是一根刺入国际芯片“大动脉”的针。所以相比起依托 ASML这样的本国企业，还是先把本人的光刻设备搞出来比拟好。中国迷信院倪光南曾屡次向外界呼吁，要改动国际半导体行业的现状，不要对国外的科技抱有太大的希望，假如不想被国外的科技所障碍，就必需加大研发力度，努力工